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光催化除臭設備
一、光催化氧化原理：
半導體的能帶結構，由低能的價帶和高能的導帶構成，價帶和導帶之間存在禁帶。當能量大于或等于能隙的光照射到半導體時，半導體吸收光，產生電子-空穴對?？昭梢詩Z取半導體表面被吸附物質或溶劑中的電子，使原本不吸收光的物質被活化和氧化，電子受體通過接受表面的電子而被還原。產生了非?；顫姷牧u基自由基 ，超氧離子自由基 以及 自由基，這些都是氧化性很強的活潑自由基，能夠將各種有機物如醛類、苯類、VOC類有機物，氨類、氮氧化物、硫化物以及其它及無機物直接氧化為 , 等無毒無害物質。經過凈化之后的廢氣分子被活化降解，臭味同時消失了，起到了廢氣凈化和除臭的作用，同時有去除細菌病毒的功效。表1給出了傳統氧化劑和 的氧化電勢，可以看出 的氧化電勢遠高于傳統氧化劑的氧化電勢。
二、催化劑及制備技術
圖1是主要半導體光催化材料的能帶圖。其中TiO2有合適的帶寬，以及導帶和價帶的位置。由于其有很好的光穩定性、無毒無害、成本低等優點，是目前研究最多，應用最廣的光催化劑。
杭州藍德環境技術有限公司與上海第二工業大學合作開發了以工業丙烷為燃料、空氣為氧化劑、TiCl4為先驅物的火焰CVD法制備納米TiO2的先進工藝技術。該技術不僅有能耗少、成本低等優點，可負載陰離子和金屬離子修飾納米TiO2，使其在低和高相對濕度條件下都有高的催化氧化活性；同時可使納米TiO2原位同步負載在催化劑載體上，有催化劑負載均勻、負載操作簡單、催化活性高等優點。
三、光催化凈化器
杭州藍德環境技術有限公司與上海第二工業大學合作開發的填料式光催化氣體凈化器，具有光催化劑與氣體接觸時間長、壓降低、紫外光照好等優點的一種新型光催化氣體凈化器。
?凈化器的技術指標：
u?填料空隙率>90%；
u?光照強度1-3kW/m3填料；
u?20-200g納米光催化劑/ m3填料；
u?空塔氣速2m/s，壓降<100Pa/m；
u?降解率>90%；
?凈化器的技術優勢：
u?? 只需電能，接通電源即可，運行簡單可靠；
u?凈化器為模塊式結構，維修和售后服務方便；
?氣體凈化工藝及凈化工作理
?由于藍德凈化器有效率高的優點，可單機使用，氣體凈化工藝流程圖如圖2所示。光催化原理如圖3所示。由于在光催化氧化反應過程中無任何添加劑，反應徹底，無二次污染。
四、應用領域
?由于羥基自由基有氧化活性高、無選擇性的特征，光催化氣體凈化適用于食品生產、汽車制造、自行車、摩托車、家用電器、電線電纜、漆包線、電機絕緣處、電器、儀表、電子、石油化工、涂料、化工、醫藥、印鐵、印刷、紡織、家俱、人造合成木材、皮革、鑄造、制鞋業、污水處理廠、泵站等產生廢氣的進行凈化和除臭治理。
根據廢氣的物理化學性能特征，藍德光催化氣體凈化器的系列產品分為
u?苯類廢氣凈化器系列
u?烴類廢氣凈化器系列
u?腐植酸類廢氣凈化器系列?
u?惡臭廢氣凈化器系列
u?無機廢氣（氨、硫化氫等）廢氣凈化器系列。
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